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반도체 소자의 제작에 있어 가장 중요한 과정인 패턴 형성 공정을 실습하는 과정으로 Photolithography 및 Etch 공정에 대한 이론 및 실습 교육을 통해 실무 내용을 익히는 과정
반도체 소자의 제작에 있어 중요한 과정인 박막을 형성하기 위한 Wet Cleaning 공정, Oxidation 공정, PECVD 공정에 대한 이론 및 실습 교육을 통해 실무 내용을 익히는 과정
반도체 소자의 제작에 있어 가장 중요한 과정인 Photolithography 및 Etch, CVD 공정에 대한 이론 및 실습 교육을 통해 실무 내용을 익히는 과정
반도체 소자 제작에 있어 중요한 과정인 구조형성 공정을 실습하는 과정으로 Photolithography 및 Etch 공정, Wet Cleaning 공정, Oxidation 공정에 대한 이론과 실습을 익히는 과정
제작된 반도체 소자의 전기적 특성을
직접 측정하고 분석함으로써 소자의 물성을 이해하고 분석 기법을 실습할 수 있는 과정
반도체 소자 제작을 위한 주요 단위 공정과 집적 공정, 교육원 Fab을 이용한 트랜지스터 소자 제작 그리고 Probe Station을 활용한 반도체 소자의 전기적 특성 측정을 직접 실습하는 과정
패키징공정실습
4일(32시간)
재학생 80만/구직자 85만/재직자 160만
Simulation 기반의 반도체소자
최적화실습
2일 (16시간)
개인 노트북 준비
재학생 30만/구직자 40만/재직자 60만
반도체소자제작 및 전기적 특성
측정 (심화 속성)
3일 (24시간)
소자제작(2일)+전기적특성측정(1일)
재학생 65만/구직자 70만/재직자 130만
반도체 입문
구조 형성 공정(기초)
소자 동작 구현 공정(기초)
교육비 10만 / 수료생 7만
반도체 소자 제작을 위한 주요 8대 단위 공정 & CMOS 집적 공정에 대한 이론적인 교육과정
반도체 관련 회사 면접 특강 등
Transistor 특강
DRAM 특강
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# 메모리사업부
# 파운드리사업부
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#공정(R&D)
