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반도체 소자의 제작에 있어 가장 중요한 과정인 패턴 형성 공정을 실습하는 과정으로 Photolithography 및 Etch 공정에 대한 이론 및 실습 교육을 통해 실무 내용을 익히는 과정
반도체 소자의 제작에 있어 중요한 과정인 박막을 형성하기 위한 Wet Cleaning 공정, Oxidation 공정, PECVD 공정에 대한 이론 및 실습 교육을 통해 실무 내용을 익히는 과정
반도체 소자 제작에 있어 중요한 과정인 구조형성 공정을 실습하는 과정으로 Photolithography 및 Etch 공정, Wet Cleaning 공정, Oxidation 공정에 대한 이론과 실습을 익히는 과정
반도체 소자의 제작에 있어 가장 중요한 과정인 Photolithography 및 Etch, CVD 공정에 대한 이론 및 실습 교육을 통해 실무 내용을 익히는 과정
제작된 반도체 소자의 전기적 특성을 직접 측정하고 분석함으로써 소자의 물성을 이해하고 분석 기법을 실습할 수 있는 과정
반도체 소자 제작을 위한 주요 단위 공정과 집적 공정, 트랜지스터 소자 제작 그리고 Probe Station을 활용한 반도체 소자의 전기적 특성 측정을 직접 실습하는 과정
3일 (24시간)
소자제작(2일)+전기적특성측정(1일)
4일 (32시간)
반도체 소자를 직접 제작하여 측정하고, 와이어본딩공정 후의 소자 특성과 비교해보는 과정
공정을 진행하는 반도체 장비의 요소기술 및 핵심 부품에 대한 이론 및 기초를 실습하는 과정
2일 (16시간)
개인 노트북 준비
반도체 소자 제작을 위한 주요 8대 단위 공정 & CMOS 집적 공정에 대한 이론적인 교육과정
반도체 입문
구조 형성 공정(기초)
소자 동작 구현 공정(기초)
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# 메모리사업부
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